マグネリ相 Ti4O7 アノードによる電気化学的酸化中の塩素酸塩と過塩素酸塩の形成: 共存する成分の抑制効果
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マグネリ相 Ti4O7 アノードによる電気化学的酸化中の塩素酸塩と過塩素酸塩の形成: 共存する成分の抑制効果

Jul 03, 2023

Scientific Reports volume 12、記事番号: 15880 (2022) この記事を引用

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電気酸化プロセスにおける副生成物として塩素酸塩 (ClO3-) と過塩素酸塩 (ClO4-) が生成することが懸念されています。 本研究では、ホウ素ドープ ダイヤモンド (BDD) およびマグネリ相亜酸化チタン (Ti4O7) アノード上の 1.0 mM Cl- の存在下での ClO3- および ClO4- の形成を評価しました。 10 mA cm2 の一定電流密度で BDD アノード上で最初の 0.5 時間で Cl- は ClO3- (時間的最大値 276.2 μM) に変換され、4.0 時間後に約 1000 μM C​​lO4- が形成されました。 Ti4O7 アノード上での ClO3- の形成は遅くなり、4.0 時間で一時的な最大値約 350.6 μM に達し、Ti4O7 アノード上での ClO4- の形成も遅くなり、780.0 μM に達するまでに 8.0 時間を要しました。 BDD アノードと比較すると、実験で使用した支持電解質 (Na2SO4、NaNO3、Na2B4O7、Na2HPO4 など) に関係なく、Ti4O7 アノード上の ClO3- および ClO4- の形成速度は常に遅かった。 反応溶液にメタノール、KI、および H2O2 が含まれている場合、電気酸化中の ClO4- の形成が大幅に軽減されるか、さらには除去されることは興味深いことです。 電気酸化による Cl- 変換の阻害のメカニズムを調査しました。

電気酸化 (EO) プロセスは、廃水処理における有望な技術です 1、2、3、4。 EO プロセスは、医薬品、内分泌かく乱物質、フェノール化合物、特にパーフルオロアルキル物質およびポリフルオロアルキル物質 (PFAS) を含む、従来の処理プロセスでは除去できない広範囲の難分解性有機汚染物質を分解するための実行可能な手段であることが実証されています 5,6 、7、8、9。 EO は、有機汚染物質からアノードへの直接電子移動と、EO プロセス中にアノード表面でも生成されるヒドロキシル フリー ラジカルやその他の活性酸素種による攻撃によって、有機汚染物質の分解を促進する化学破壊技術です10。

EO 水処理用の十分に安定で効果的なアノード材料は、過去数十年間に開発されてきました。これには、酸化イリジウムや酸化ルテニウムなどの混合酸化物 11、12、13、二酸化チタン 14、およびドープ ダイヤモンド電極 (BDD) 15、16、17 が含まれます。 。 これが、EO プロセスがごく最近になって技術的に成熟に近づいた重要な理由の 1 つです18。 Ti4O7 などのマグネリ相亜酸化チタンは、その高い導電性と化学的不活性のため、EO 用途に有望な電極材料として最近研究されています。 Ti4O7 アノードは、直接電子移動 (DET) と、水の酸化によりアノード表面で生成される H2O・との間接反応の組み合わせによって、難治性汚染物質を酸化することが示されています10。 私たちの最近の研究では、マグネリ相 Ti4O7 アノード上でのパーフルオロオクタンスルホン酸塩 (PFOS、最も一般的に使用されるパーフルオロアルキル酸の 1 つ) の分解と石化が実証されました 19,20。

水/廃水処理における EO の適用を制限する要因の 1 つは、その強力な酸化条件により、塩素酸塩 (ClO3-) や過塩素酸塩 (ClO4-) などの Cl- の存在下で有毒な副産物が生成されることです。 特に、ClO4- は水から除去するのが難しく、その消費は内分泌系や生殖系の混乱に伴う健康リスクと関連しています 21。 これらのリスクにより、米国環境保護庁 (EPA) は安全な飲料水法に基づいて過塩素酸塩を規制していますが、連邦政府による制限値はまだ設定されていません 22。 ClO4- の形成は、いくつかのアノード材料 (BDD や Ti4O7 など) を使用した EO 中に報告されています 23。 Cl- の存在により、遊離塩素 (HOCl) が生成され、BDD と Ti4O7 アノードの両方を使用する EO システムでは、遊離塩素 (HOCl) がさらに ClO3- と ClO4- に変換されます。 この変換プロセスは、Ti4O7 アノード 24 よりも BDD ではるかに高速に現れました。 水/廃水処理用途のための塩素関連の有毒副生成物の形成を最小限に抑える電気酸化システムを開発することが望ましい。

この研究の目的は、マグネリ相 Ti4O7 アノードでの電気酸化中の Cl- を含む溶液中の ClO3- および ClO4- の生成を系統的に調査し、BDD アノードでの生成と比較することでした。 実験は、異なる支持電解質中、異なる電気化学的条件で実施されました。 Ti4O7 アノードにおける ClO3- および ClO4- の生成の阻害を調査するために、いくつかの共存成分の影響を評価しました。 この発見は、Ti4O7 アノード上の EO における ClO3- および ClO4- の生成を減らすための戦略を考案するための基礎を提供します。

実験で使用された化学薬品はすべて試薬グレード以上のものでした。 ClO3- は Sigma-Aldrich (セントルイス、ミズーリ州) から購入しました。 ClO4-、NaCl、および HPLC グレードのメタノール (MeOH) は、Fisher Chemical から入手しました。 Na2SO4、NaNO3、Na2B4O7、Na2HPO4、NaH2PO4、H3PO4、H2O2、KI は JT Baker から供給されました。 すべての原液は、Barnstead Nano 純水精製システムによって生成された超純水 (18.2 MΩ cm-1) で調製されました。

EO 実験は、アクリル製の分割されていない長方形のセル (10 cm × 5 cm × 2.5 cm) 内で実行されました。 セラミックプレート Ti4O7 (10 cm × 5 cm) または同じサイズの Si/BDD プレート (両面コーティング、NeoCoat、スイス) をアノードとして使用し、同じサイズの 2 枚の 304 ステンレス鋼プレートをアノードとして使用しました。陽極の両側に約2.5cmの間隔で平行に配置したものを陰極として用いた。 Ti4O7 電極は、以前の研究 20,24 で使用した方法に従って製造されており、その準備と特性評価に関する情報はサポート情報 (テキスト S1) に詳細に記載されています。 各実験中、電解セルには、特に指定がない限り、支持電解質として Cl- (1.0 mM) および Na2SO4 (100 mM) または他の塩 (NaNO3、Na2B4O7、Na2HPO4、NaH2PO4、H3PO4) を含む 200 mL の溶液が含まれ、700 rpm で撹拌されました。 pH 10 ~ 11 の場合は Na2HPO4 電解質、pH 6 ~ 7 の場合は NaH2PO4 + Na2HPO4、pH 2 ~ 3 の場合は H3PO4 を緩衝剤として使用して、pH の影響を調査するために、いくつかの EO 実験が実行されました。 一部の EO 実験では、塩素酸塩と過塩素酸塩の生成に対する影響を調査するために、MeOH (10 ~ 1000 mM)、KI (20 ~ 100 mM)、または H2O2 (100 ~ 1000 mM) を電解質溶液に添加しました。 すべての EO 実験は室温で実施されました。

別段の指定がない限り、制御可能なDC電源(Electro Industries Inc.、Monticello、MN)を使用して、10mA cm -2 の密度で定電流を供給した。 アノードの両側の浸漬表面積(総幾何学的表面積は 78 cm2)を、電流密度の計算に使用しました。 CHI 660E 電気化学ワークステーション (CH Instruments, Inc.、テキサス州オースティン) を使用して、アノードの近くに配置された Ag/AgCl 参照電極を使用してアノード電位を測定し、溶液中の電位降下 (iR) を補正しました。 均一性を確保するために電源を一時停止し、溶液を継続的に撹拌しながら、事前に選択した時点で 3 つのサンプル (各 1.0 mL) を抜き取りました。 サンプルはさらなる分析まで 4 °C で保管されました。 データは、重複したテスト結果の最大値と最小値を表すエラーバーとともにプロットされました。 溶液の温度を監視しましたが、電気分解プロセス中に大きな変化は見つかりませんでした。

選択したサンプル中の遊離塩素、ClO3-、および ClO4- を定量しました。 HClOの濃度は、分光光度計(Beckman Coulter DU 800、ブレア、カリフォルニア州)により510nmで測定した。 2.5 mL のアリコートサンプルを 0.25 mL の DPD 溶液 (8.0 mM) と直ちに混合しました。 DPD は HOCl により酸化されて赤色を示します。 ClO3- および ClO4- は、エレクトロスプレー イオン化 (ESI) 源を備えた Waters (マサチューセッツ州ミルフォード) の超高速液体クロマトグラフィー (UPLC-MS/MS) を使用して分析されました。 UPLC-MS/MS 分析パラメーターの詳細については、テキスト S2 を参照してください。 ClO3- および ClO4- の定量は、多点標準キャリブレーションに基づいていました。

Cl- は EO システム内で酸化されて、ClO3- および ClO4- をもたらす反応性塩素種を形成する可能性があります。 1.0 mM Cl- の存在により、BDD および Ti4O7 アノード上の HOCl、ClO3-、および ClO4- が増加することが示されました (図 1)。 BDD アノードでの 4.0 時間の電解酸化プロセスでは、ほとんど検出できるほどの HOCl は検出されませんでしたが、Ti4O7 アノードを備えたシステムでは HOCl の濃度が継続的に増加し、8.0 時間で 103.2 μM に達しました。 どちらのシステムでも、ClO3- 濃度は増加してその後横ばいになりましたが、ClO4- の濃度は継続的に増加しました。 Cl- の変換は、一般に BDD アノードでより高速でした。 データ(図1)は、ClO3-の濃度が最初の0.5時間で276.2μMに達し、その後BDDアノードで減少する一方で、ほぼすべてのCl(約1000μM)が4時間以内にClO4-に変換されたことを示しています。 Ti4O7 電極上の ClO3- の形成は遅くなり、4.0 時間で約 350.6 μM のプラトーに達し、その後ゆっくりと減少しました。 ClO4- の形成も Ti4O7 電極ではよりゆっくりと行われるようで、780.0 μM に達するまでに約 8.0 時間を要しました。

異なるアノード上での Cl- の電気化学的酸化中の塩素種の比較。 破線はシミュレーション結果を示しています。 条件: [Cl-]O = 1.0 mM、[Na2SO4] = 100 mM、電流密度 = 10 mA cm-2。

Cl- は電気酸化において、直接電子移動 (DET) により複数のステップ (R1 ~ R3) の経路を介して ClO3- および ClO4- に変換されます。 BDD電極上でCl−を直接酸化すると、Cl・と次亜塩素酸塩が生成した。 しかし、BDD 電極とは異なり、Ti4O7 アノード上の DET による Cl- の酸化はそれほど効果的ではなく、その結果、BDD アノードよりも ClO3- および ClO4- の形成が遅くなりました 24。 間接的なルート (R4 ~ R5) は、Ti4O7 と BDD アノードの両方で Cl- の生成につながる可能性があり、さらに R2 と R3 での反応を経て、HOCl と塩素化副生成物を形成する可能性があることに注意してください。 DET と間接経路の両方を介した Cl- から HOCl および塩素化副生成物への変換には、アノードでの水の酸化によって形成されるヒドロキシル ラジカル (HO-) が関与します。

EO システムにおける Cl- から塩素酸塩および過塩素酸塩への変換速度は、各ステップを擬一次反応速度論 (R6 ~ R7) として仮定することにより、2 つの連続ステップのモデルを使用してシミュレートされています 23,25。 このような逐次方程式の速度定数 k1 および k2 は、ソフトウェア Kintecus v6.8026 を使用して、図 1a および b に示すデータをフィッティングすることによって取得されました。 k1 と k2 の値は、BDD アノードではそれぞれ 5.40 × 10−4 と 7.16 × 10−4 s−1 になるようにフィッティングされましたが、Ti4O7 アノードでは値は 8.59 × 10−5 と 1.34 × 10−4 でした。それぞれs−1。 これは、Ti4O7 アノードよりも BDD アノードの k1 と k2 が大きいことから明らかなように、BDD では Cl- が ClO3- と ClO4- に容易に酸化されることを示しています。 ClO3- および ClO4- の生成が遅れるため、水/廃水処理に Ti4O7 アノードを適用することが有利になります。

100 mM Na2SO4、NaNO3、Na2B4O7、Na2HPO4 などのさまざまな支持電解質を含む溶液中で、BDD および Ti4O7 アノードを使用した EO による ClO3- および ClO4- の形成を評価するために、一連の実験を実行しました。 さまざまな電解質溶液で測定されたClO3-およびClO4-の濃度を図2にまとめます。図2aおよびbに示すように、BDDアノードおよび支持電解質としてNa2SO4を使用した場合、ClO4-濃度は4.0時間後に990μMに達しました。総 Cl- の約 99% が最初に溶液に含まれます。 ClO3−はほとんど検出されなかった。 同じ電流密度では、BDD 電極上の支持電解質として NaNO3、Na2B4O7、および Na2HPO4 を使用すると、ClO4- の形成が遅くなります。 硫酸ラジカル (SO4・-) は、アノードでの硫酸イオンの一電子酸化によって形成され、有機物 15 および塩化物 27 の酸化に関与することが知られています。 BDD アノードを使用したリン酸塩を含む溶液の電気分解中に、ペルオキソ二リン酸塩の発生が観察されました 28。 したがって、ペルオキソ二硫酸塩も硫酸塩含有溶液中で形成されたが、リン酸塩からの競合酸化反応が存在する可能性がある29。 NaNO3 を電解質として使用すると、電気化学的還元によってアンモニウムやその他の還元窒素種の形成が促進される可能性があります 30。 アンモニウムは遊離塩素と反応し、クロラミンの形成を促進し、塩素酸塩と過塩素酸塩の生成の可能性を減らします 31,32,33。

異なる電解質溶液中での Cl- による電気化学的酸化による ClO3- と ClO4- の生成の比較。 [Cl-]O = 1.0 mM、電解質濃度 = 100 mM、電流密度 = 10 mA cm-2、反応時間 = 4.0 時間。

全体として、変換は、すべての支持電解質溶液において BDD アノードでより迅速に行われました。 図 2 に示すように、Ti4O7 をアノードとして使用した場合、ClO3- および ClO4- の合計濃度は低くなりました。 例えば、支持電解質としてNaNO3およびNa2B4O7を用いたBDDアノードでは4.0時間後、ClO4−濃度はそれぞれ572.62および527.92μMであったが、Ti4O7アノードでは、それぞれ92.37および212.84μMであった。 特に、BDD システムの ClO4- 濃度は、支持電解質として NaNO3 を使用した場合、4.0 時間後に 572.6 μM でしたが、Ti4O7 アノードでは同じ条件ではわずか 92.4 μM でした。

Ti4O7 による ClO3- および ClO4- の形成に対する共存成分の影響を調べるために、Cl- および MeOH、H2O2、KI などのいくつかの共存成分の存在下で EO を調べる実験が行われました。アノード。

イオン交換樹脂 (IXR) の交換/吸着は、水から PFAS を除去するのに効果的であることが示されています。 PFAS を含む IXR を再生すると、高濃度の PFAS、塩、および IXR 再生の有機共溶媒としてよく使用される MeOH などの残留有機成分を含む、蒸留缶残液として知られる少量の高濃度液体廃棄物が生成されます。 私たちの最近の研究では、蒸留缶残液中の MeOH 含有量が塩化物の酸化に関与している可能性があることが示されました 20。 このセクションでは、EO による Cl- の変換中の MeOH の影響をさらに調査するための実験を計画しました。 したがって、EO 実験は、1.0 mM Cl- およびさまざまな量の MeOH を含む 100 mM Na2HPO4 溶液中で実行されました。 MeOH の添加は、反応溶液の導電率にわずかに影響を与えるようでした。 導電率は10.51 mS cm-1から9.79 mS cm-1に低下しましたが、アノード電位は同じ電流密度(10 mA cm2)で増加しました(図S1a)。MeOHの非存在下での2.93 Vから、MeOHを使用すると3.22 Vに増加しました。 100 mM メタノール。 MeOH の存在により溶液の導電率が低下したため、同じ電流密度でも陽極電位が増加しました。 10 mA cm-2 での EO 処理中の ClO3- および ClO4- の形成を図 3 に示します。MeOH の非存在下では、ClO3- は約 1.0 時間で 117.8 μM に達し、その後減少しました。 値は、10 mM および 100 mM MeOH を含むそれぞれ 17.3 および 0.0 μM に減少しました。 このような時間経過プロファイルは、ClO3- のさらなる反応を示しています。 ClO4- の形成は単調に増加し、MeOH の非存在下では 8.0 時間で 329.0 μM に達しました。 10 mM および 100 mM MeOH をスパイクすると、最初の 2.0 時間は ClO4- がほとんど生成されませんでしたが、その後 ClO4- が増加し始め、8.0 時間でそれぞれ 300.0 μM と 251.8 μM に達しました。 1000 mM MeOH を添加すると、ClO4- の形成は完全に阻害され、MeOH が ClO3- および ClO4- の形成を阻害することが示されました。 より低い MeOH 用量 (10 および 100 mM) の存在下での ClO4- の形成の遅延は、時間の経過による MeOH の枯渇によって引き起こされる可能性があります。 それぞれ 50 mM NaH2PO4 + 50 mM Na2HPO4 (pH 6 ~ 7) または 100 mM H3PO4 (pH 2 ~ 3) Na2HPO4 の代わりに電解質として使用 (pH 10 ~ 11)。

Ti4O7 アノード上で MeOH の存在下で Cl- を電気化学的に酸化する際の ClO3- および ClO4- の濃度。 条件: [Cl-]O = 1.0 mM、[Na2HPO4] = 100 mM、電流密度 = 10 mA cm-2。

以前の研究では、Cl- は Ti4O7 アノード上の DET を介して Cl・に酸化されず、Cl・は主に間接経路 (R4-R5) を通じて形成されることが証明されました 24。 Cl・は別のCl-と反応してCl2・-を形成します。 Cl・とCl2・-も互いに結合して遊離塩素(Cl2、HClO)21、34、35を形成します。 これらの反応性塩素種は蓄積してアノード表面から拡散し、最終的には ClO3- および ClO4- に変換される可能性があります。 MeOH は、HO・をペルヒドロキシルラジカルに変換できます(二次速度定数は 2.1 × 109 M−1 s−1 です)。 一方、MeOHとCl・の反応速度定数は5.7×109 M−1 s−1である。 MeOH は、バルク溶液中の Cl・ および H2O (存在する場合) を消費する可能性があります。 したがって、低濃度の MeOH では ClO3- および ClO4- の生成が減少しましたが、高濃度の MeOH では Cl・ が急速に変換され、ClO3- および ClO4- の生成が阻害されます。

ヤンら。 BDD アノードでの EO 中の ClO4- の形成は、H2O223 を添加することによって大幅に抑制できることを発見しました。 したがって、この研究では、一般的に使用されるクエンチャーである H2O2 も調査されました。 H2O2の存在下でのClO3-およびClO4-の生成の経時データを図S2に示します。 Kintecus v6.80を使用して、図S2のデータをフィッティングして、式R6−R7で表されるk1とk2を取得しました。これらは、共存する成分(図4)。 1000 mM H2O2 を添加すると、k1 と k2 の値はそれぞれ 1.16 × 10-6 および 1.87 × 10-4 s-1 に減少しました。 図S2および図4に示すデータは、1000 mMのH2O2の添加もEO中のClO3-およびClO4-の形成を有意に制限することを示しました。

MeOH、H2O2、KI を添加した電気化学的酸化中の適合 k1 (R6) と k2 (R7) の比較。

H2O2 は、反応媒体の組成に応じて、酸化剤 (H2O2/H2O、E0 = 1.76 V) と還元剤 (O2/H2O2、E0 = 0.68 V) の両方であることが知られています。 したがって、以前の研究では、HOCl は H2O236,37 (R8-R9) によって還元されて Cl- に戻ることができることが実証されています。 遊離塩素に加えて、H2O2 は塩素ラジカル種 (R10 ~ R11) と直接反応することもあります。 したがって、EO 系では H2O2 による HOCl および塩素ラジカル種の還元が H2O2 による Cl- の酸化を上回り、したがって ClO3- および ClO4- の生成が減少したと考えられます。 さらに、H2O2 は ClO3- と反応して二酸化塩素 (R12)38,39 を形成する可能性があるため、ClO3- の生成がさらに減少します。

Cl- (Cl・/Cl-、2.41 V) および Br- (Br・/Br-、1.62 V) は、H2O・によって酸化されて発がん性の塩素酸塩および臭素酸塩 40 を形成する可能性がありますが、I- は 1.33 V の低い還元電位を持ちます25。 、41、理論的には、Cl- および Br- よりも容易に酸化される可能性があります42。 我々の以前の研究では、PFAS 回収能力を損なうことなく、PFAS を含むイオン交換樹脂を再生するための Cl- フリー塩として NaI を使用できる可能性があることも判明しました 20。 EO プロセス中の ClO3- および ClO4- の形成に対する I- の影響を評価するために、I- の存在下で EO 実験を実行しました。 陽極電位は、異なるレベルのI-で同じ電流密度(10 mA cm2)で比較的一定であったことに注意してください(図S1b)。 図 5 に示すように、I- の存在は ClO3- および ClO4- の形成を有意に阻害しました。 20 mM KI の存在下では、最初の 4.0 時間では ClO3- はほとんど形成されませんでしたが、8.0 時間後に 25.5 μM まで増加しました。 。 同様に、ClO4- の生成は最初の 4.0 時間でゆっくりと増加し、8.0 時間で 287.2 μM に達しました。 さらに、100 mM KI をスパイクすると、ClO3- および ClO4- の生成がほぼ完全に阻害され、k1 と k2 の値はそれぞれ 0 と 4.76 × 10-6 s-1 に減少しました (図 4)。 これは、I- が HO・との反応において CI- を上回り、Ti4O7 上での HOCl の生成が遅くなり、したがって ClO3- および ClO4- の形成が阻害されることを示唆しています。 I- は一般的な酸化剤によって酸化され、反応性ヨウ素種 (次亜ヨウ素酸 (HOI)、ヨウ素 (I2)、ヨウ素ラジカル (I・) など) を生成し、その後、発がん性があるとは考えられていないヨウ素酸塩 (IO3-) になります。なぜなら、摂取後すぐに I- に還元されるからです 43,44。

Ti4O7 アノード上の KI の存在下での Cl- の電気化学的酸化中の ClO3- および ClO4- の形成。 条件: [Cl-]O = 1.0 mM、[Na2HPO4] = 100 mM、電流密度 = 10 mA cm-2。

結論として、Cl- の酸化により、EO 中に BDD とマグネリ相 Ti4O7 アノードの両方で ClO3- と ClO4- が形成されます。 この変換プロセスは、Na2SO4、NaNO3、Na2B4O7、Na2HPO4 などのさまざまな支持電解質中での Ti4O7 アノードよりも BDD の方がはるかに高速でした。 ClO3- と ClO4- の形成は、どちらの系でも支持電解質として Na2SO4 を使用するとより容易でした。 BDD および Ti4O7 アノードを使用した 4.0 時間の EO の後、総 Cl- の約 99% および 58% がそれぞれ ClO4- に変換されました。 NaNO3 を電解質として使用すると、ClO3- および ClO4- の生成はある程度減少し、Ti4O7 アノード上で全 Cl- の 9% だけが ClO4- に変換されました。 MeOH、H2O2、KI を添加すると、Ti4O7 アノードによる EO 中の ClO3- および ClO4- の形成を効果的に抑制できます。 1000 mM MeOH および 100 mM KI の存在により、それらの形成のほぼ完全な阻害が達成されました。 MeOH、H2O2、KI は効果的で入手しやすく、安価であるため、ClO3- および ClO4- の生成を軽減する理想的なクエンチャーであると考えられます。 特に、KI は MeOH や H2O2 よりも安定しており、保存や輸送が容易です。 I- は EO 系で最終的に酸化されてヨウ素酸塩になりますが、ヨウ素酸塩は比較的安定で良性の化学物質です。 実際には、EO 処理は I- を完全に変換するように設計できます。そうでない場合は、残留 I- を除去するために IXR などの研磨ステップを実行する必要があります。 この発見は、EO プロセスにおける ClO3- および ClO4- の生成を減らすための戦略を考案するための基礎を提供します。

現在の研究中に収集された SEM は、NoMad リポジトリ 8uLLHSolQ06aHg2roegwpg で入手できます。

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この研究は、米国国防総省 SERDP ER-2717 および ER18-1320 によって部分的に支援されました。

紹興大学生命科学部、紹興市、312000、中国

ルー・ワン&バオウェイ・フー

南京農業大学環境科学工学部、南京、210095、中国

ルー・ワン & ルー・ジュンヘ

ジョージア大学作物土壌科学部、グリフィン、ジョージア州、30223、米国

ヤエ・ワン、ユーフェイ・スイ、チングオ・ファン

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LWはマニ原稿を書きました。 QH を改訂および編集しました。 著者全員が原稿をレビューしました。

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転載と許可

Wang, L.、Wang, Y.、Sui, Y. 他マグネリ相 Ti4O7 アノードによる電気化学的酸化中の塩素酸塩と過塩素酸塩の形成: 共存する成分の抑制効果。 Sci Rep 12、15880 (2022)。 https://doi.org/10.1038/s41598-022-19310-5

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受信日: 2022 年 5 月 8 日

受理日: 2022 年 8 月 26 日

公開日: 2022 年 9 月 23 日

DOI: https://doi.org/10.1038/s41598-022-19310-5

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